رسوب دهی شیمیایی از بخار (CVD) به فرآیندی گفته می شود که شامل تجزیه و یا واکنش های شیمیایی از واکنش گرهای گازی در یک محیط فعال شده مانند (گرما، نور و پلاسما) می شود و برای تولید و تشکیل یک محصول جامد پایدار استفاده می گردد.
این فرآیند متعلق به دسته ای از فرآیندهاست که انتقالات مواد در آن ها از طریق گازها صورت گرفته و رسوبات ایجاد شده از آن اتم ها یا مولکول ها و یا ترکیبی از آن ها می باشد.
رسوب گذاری شامل واکنش های همگن گازی و یا واکنش های شیمیایی غیرهمگن در مجاورت یک سطح حرارت داده شده می باشد و در اثر این واکنش ها به ترتیب پودرها و لایه هایی به دست می آید.این روش رسوب گذاری اتمی می تواند موادی با خلوص بسیار بالا ایجاد کند که ساختار آن تا مقیاس اتمی یا نانومتری قابل کنترل می باشد. علاوه بر این، فرآیند CVD می تواند موادی تک لایه، چند لایه، کامپوزیت، نانو ساختار و پوشش هایی با ساختار دانه بندی معین با کنترل ابعادی بسیار عالی و ساختار یکنواخت در فشارهای پایین تولید کند.
رسوب دهی شیمیایی از بخار (CVD) یک فرآیند مناسب برای ساخت و تولید پوشش ها، پودرها، فیبرها و اجزاء یکپارچه می باشد. با این روش تولید اغلب فلزات، تعدادی از عناصر غیر فلزی مثل کربن و سیلیسیم و همچنین تعداد زیادی از ترکیبات شامل کاربیدها، نیتریدها، اکسیدها، ترکیبات بین فلزی و غیره ممکن است. این تکنولوژی اکنون یکی از فاکتورهای ضروری در ساخت نیمه رساناها و دیگر اجزاء الکترونیکی، پوشش ابزارها، یاتاقان ها، قطعات مقاوم به سایش و خوردگی و وسایل نوری می باشد.